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完全不需使用到光阻及光罩
2019-02-15 01:45:49  来源:宋体

国研院成功开发出16奈米SRAM新元件,主要是创新3项关键技术,包括“奈米喷印成像技术”、“320度低温微波活化”及“N型锗元件研究”;相较一般传统微影光学成像技术,完全不需使用到光阻及光罩,可省下每套新台币2亿元的光罩费用。

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